鍍銅工藝在電鍍、電子制造等領域廣泛應用，但其產生的含氰廢水具有高毒性、難降解等特性，若不妥善處理將對環(huán)境和人類健康造成嚴重危害。本文依斯倍環(huán)保將針對鍍銅過程中產生的含氰廢水，提出一套高效、可行的鍍銅含氰廢水處理工藝。

隨著現(xiàn)代工業(yè)的發(fā)展，電鍍行業(yè)在金屬表面處理中占據(jù)重要地位，而鍍銅作為其中常見工藝之一，廣泛應用于印制電路板（PCB）、汽車零部件、五金制品等領域。然而，鍍銅廢水中常含有高濃度的氰化物和銅離子，屬于典型的有毒有害廢水，必須進行有效治理。

含氰廢水的主要污染物為游離氰離子（CN?）及其絡合物（如銅氰絡合物），這些物質具有極強的毒性和生物累積性，直接排放會對水體生態(tài)系統(tǒng)和人體健康造成嚴重威脅。因此，開發(fā)一種高效、經濟、穩(wěn)定的鍍銅含氰廢水處理與回用工藝顯得尤為重要。

鍍銅含氰廢水處理采用“預處理 + 化學氧化 + 重金屬去除 + 膜分離 + 高級氧化 + 回用”組合的處理路線，具體流程如下：

 預處理（格柵 + 調節(jié)池）  

格柵：攔截大顆粒懸浮物，防止后續(xù)設備堵塞；

調節(jié)池：均質均量，穩(wěn)定進水水質與水量。

化學氧化（堿性氯化法）  

采用次氯酸鈉（NaClO）在堿性條件下對氰化物進行兩級氧化處理：

一級氧化：pH=10~11，CN?被氧化為氰酸鹽（CNO?）；該方法能有效破壞氰化物毒性，降低COD。

重金屬去除（硫化物沉淀 + 石灰沉淀）  

硫化鈉（Na?S）沉淀法：用于優(yōu)先去除銅離子，生成CuS沉淀；

石灰沉淀法：加入Ca(OH)?，使剩余重金屬形成氫氧化物沉淀，同時調節(jié)pH值至中性。

膜分離系統(tǒng)（超濾 + 反滲透）  

經前段處理后的出水進入膜系統(tǒng)進行深度凈化：

超濾（UF）：去除殘余膠體、懸浮物和部分有機物；

反滲透（RO）：截留溶解性鹽類、微量金屬離子和小分子有機物，產水達到回用水標準。

高級氧化（臭氧/UV/H?O?體系）  

對于RO濃水或難降解有機物，采用高級氧化技術（AOPs）進行深度處理：

利用臭氧、紫外光與過氧化氫協(xié)同作用，生成羥基自由基（·OH），快速分解復雜有機物；

實現(xiàn)徹底礦化，提高COD去除率。

鍍銅含氰廢水處理是一項系統(tǒng)工程，需結合多種技術手段才能實現(xiàn)高效去除與資源化利用。本文提出的“化學氧化—重金屬沉淀—膜分離—高級氧化”聯(lián)合工藝具有處理效果穩(wěn)定、運行成本低、自動化程度高等優(yōu)點，適用于中小型電鍍企業(yè)廢水處理。