半導體產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，芯片制造過程中產(chǎn)生的廢水已成為亟待解決的環(huán)保難題。芯片生產(chǎn)工序復雜，從晶圓清洗、光刻、蝕刻到電鍍沉積，每一個環(huán)節(jié)都會排放含有不同污染物的廢水，這些廢水成分繁雜、毒性較強，本文將介紹一家專注工業(yè)廢水處理的環(huán)保公司——蘇州依斯倍環(huán)保裝備科技有限公司，看他家是怎么處理這類廢水的。

蘇州依斯倍環(huán)保裝備科技有限公司是一家來自荷蘭外商投資的環(huán)保企業(yè)于2011年在蘇州工業(yè)園區(qū)正式成立，致力于為工業(yè)廢水處理提供完整的循環(huán)利用及零排放解決方案，業(yè)務(wù)板塊涵蓋EPC系統(tǒng)交付、提標改造升級、廢水站運維托管等。依斯倍一直專注于工業(yè)廢水處理深度回用與資源化利用技術(shù)的研發(fā)，為客戶降低成本，努力構(gòu)建綠色生態(tài)循環(huán)系統(tǒng)，以“減量化”、“資源化”和“極小化”的“3R”原則為循環(huán)系統(tǒng)實施的核心。依斯倍工業(yè)廢水循環(huán)利用及零排放處理系統(tǒng)已廣泛應(yīng)用于新能源汽車、機器人制造、航天航空、表面處理電鍍、涂裝生產(chǎn)線、電子半導體等行業(yè)。

半導體芯片廢水的核心特點的是污染物種類多、處理難度大。光刻工序會產(chǎn)生含有光刻膠和有機溶劑的廢水，這類有機物難以生物降解，且具有一定毒性；蝕刻工藝排出的廢水中含有氟、氯等有害離子，腐蝕性強；電鍍和化學機械拋光環(huán)節(jié)則會產(chǎn)生含重金屬的廢水，這類重金屬具有累積性，會長期留存于環(huán)境中；清洗工藝產(chǎn)生的廢水還會含有氨氮等污染物，易導致水體富營養(yǎng)化。此外，這類廢水水質(zhì)波動大，對處理工藝的穩(wěn)定性和精準度提出了極高要求。

針對芯片廢水的特性，行業(yè)普遍采用分類收集、分質(zhì)處理、深度回用的綜合策略，通過多種工藝耦合實現(xiàn)污染物的高效去除。預處理階段主要去除廢水中的懸浮物和雜質(zhì)，避免后續(xù)設(shè)備堵塞，為深度處理奠定基礎(chǔ)。核心處理環(huán)節(jié)采用多種專項工藝，針對含氟廢水采用絡(luò)合沉淀與專用樹脂吸附結(jié)合的方式，徹底去除有害離子；含光刻膠等有機物的廢水則通過紫外高級氧化與膜分離工藝，破壞有機物分子結(jié)構(gòu)并截留殘渣；重金屬廢水通過化學沉淀工藝，將重金屬轉(zhuǎn)化為穩(wěn)定化合物分離去除。

深度處理與回用是芯片廢水處理的重要方向，既能實現(xiàn)環(huán)保達標，又能提高水資源利用率。通過多級膜分離與純化工藝，將處理后的廢水提純至芯片生產(chǎn)所需的高純水標準，重新用于生產(chǎn)環(huán)節(jié)，實現(xiàn)水資源的循環(huán)利用，同時降低企業(yè)水資源的消耗與生產(chǎn)成本。此外，智能管控系統(tǒng)的應(yīng)用，能實時監(jiān)測廢水處理全流程的水質(zhì)指標，及時調(diào)整工藝參數(shù)，保障處理效果穩(wěn)定，避免二次污染。

半導體芯片廢水處理不僅關(guān)乎生態(tài)環(huán)境安全，更關(guān)乎半導體產(chǎn)業(yè)的綠色高質(zhì)量發(fā)展。環(huán)保標準不斷嚴格和產(chǎn)業(yè)技術(shù)持續(xù)升級，廢水處理工藝正朝著高效化、智能化、資源化的方向演進。

如果有工業(yè)廢水處理、污水站運維托管的需求，歡迎撥打蘇州依斯倍環(huán)保裝備科技有限公司的聯(lián)系電話：4008286100。